等離子廢氣處理設(shè)備

簡要描述：廢氣經(jīng)預(yù)處理后首先進(jìn)入等離子廢氣處理設(shè)備的核心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū)，廢氣與低溫等離子體（注入式）發(fā)生充分接觸，大部分廢氣分子被等離子體轟擊、氧化后變成無毒、無味的氣體。然后夾雜著部分低溫等離子體的煙氣到達(dá)光化學(xué)模塊，煙氣成分在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解，Z終生成二氧化碳和水，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-11-11
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　　工藝過程

　　廢氣經(jīng)預(yù)處理后首先進(jìn)入等離子廢氣處理設(shè)備的核心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū)，廢氣與低溫等離子體(注入式)發(fā)生充分接觸，大部分廢氣分子被等離子體轟擊、氧化后變成無毒、無味的氣體。然后夾雜著部分低溫等離子體的煙氣到達(dá)光化學(xué)模塊，煙氣成分在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解，zui終生成二氧化碳和水，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。

　　處理單元介紹

　　(1)低溫等離子模塊：異味氣體與低溫等離子體發(fā)生充分接觸，異味氣體在低溫等離子體的轟擊作用下，打開異味氣體分子鏈，破壞其分子結(jié)構(gòu)，發(fā)生一系列復(fù)雜的氧化還原反應(yīng)，zui終產(chǎn)物為二氧化碳和水等無害物質(zhì)。

　　(2)光化學(xué)模塊：在高強輻照場作用下，廢氣分子的能態(tài)發(fā)生變化，由低能態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楦吣軕B(tài)，并伴隨產(chǎn)生活潑的次生氧化劑，廢氣分子在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解，zui終生成二氧化碳和水，達(dá)到廢氣凈化的目的。

　　(3)全自動化水質(zhì)監(jiān)控系統(tǒng)：等離子廢氣處理設(shè)備具備全自動化水質(zhì)監(jiān)控系統(tǒng)，可對設(shè)備水質(zhì)進(jìn)行實時檢測和監(jiān)控，始終控制水質(zhì)在正常運行范圍之內(nèi)，保證系統(tǒng)的正常運行和高的處理效率。

　　設(shè)備特點

　　1 工藝系統(tǒng)運行安全可靠；

　　2 初期投資費用不高，運行費用低，維護(hù)保養(yǎng)簡單，

　　3 工藝系統(tǒng)容易操作，占地面積小，且經(jīng)此工藝處理后無二次污染

　　適用范圍

　　廣泛應(yīng)用于橡膠、固廢(垃圾)廠、污水處理廠、飼料、涂裝、化工、汽車制造等諸多行業(yè)有機廢氣的治理以及采用其它方法很難解決的廢氣的治理。

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